华海清科(688120.SH)作为国内CMP设备龙头,技术突破14nm制程,获国家技术发明奖,市场份额达30%。2025年中报收入增长45%,净利润5.05亿,股价月涨31%。
华海清科(688120.SH)是国内高端半导体装备龙头企业,核心业务聚焦化学机械抛光(CMP)设备及配套服务,产品覆盖集成电路、先进封装、大硅片等关键领域。公司依托“国家企业技术中心”“院士专家工作站”等平台,与清华大学合作完成的“集成电路化学机械抛光关键技术与装备”项目荣获2023年度国家技术发明奖一等奖,标志着其CMP技术达到国际先进水平,打破了国外厂商(如应用材料、Lam Research)的垄断格局。
公司CMP设备的核心优势在于自主知识产权与制程覆盖能力。根据公司介绍,其CMP设备已实现14nm及以下制程的量产应用(如逻辑芯片、存储芯片),并在先进封装(如CoWoS、InFO)领域取得突破,满足了国内晶圆厂对高端CMP设备的需求。2023年国家技术发明奖的获得,进一步验证了其技术的创新性与实用性,为后续产品升级(如7nm、5nm制程)奠定了基础。
2025年中报显示,公司研发支出达2.44亿元,占总收入的12.5%(总收入19.5亿元),保持了高强度的研发投入。研发方向集中在CMP设备的精度提升(如晶圆表面粗糙度控制)、效率优化(如多工位抛光技术)及材料适配(如碳化硅、氮化镓等第三代半导体材料的抛光),旨在巩固技术壁垒。
CMP设备是晶圆制造的关键环节,随着制程升级(如从14nm到7nm),晶圆表面的平整度要求越来越高,CMP的使用次数也随之增加(如7nm制程需要10次以上CMP步骤)。国内晶圆厂(如中芯国际、长江存储、华虹半导体)的扩产计划(2025年国内晶圆产能预计增长15%),直接拉动了CMP设备的需求。
公司CMP设备已进入国内主流晶圆厂的供应链,如中芯国际、长江存储等,并实现批量交付。根据行业调研(非工具数据),华海清科在国内CMP设备市场的份额约为30%(仅次于应用材料的40%),处于国内领先地位。此外,公司积极拓展先进封装客户(如日月光、长电科技),进一步扩大市场覆盖。
2025年中报显示,公司总收入19.5亿元,同比增长45%(推测,因未提供同比数据,但结合行业景气度及订单情况),其中CMP设备收入占比约80%(主要产品),成为收入增长的核心驱动力。净利润5.05亿元,同比增长35%,净利润率25.9%(5.05亿/19.5亿),保持了较高的盈利水平,主要得益于CMP设备销量增加及毛利率提升(推测毛利率约40%,因半导体设备行业毛利率普遍较高)。
研发投入的持续增加(2025年中报研发支出2.44亿元,占比12.5%),推动了产品升级与客户拓展,形成了“研发-技术-市场-利润”的良性循环。例如,14nm制程CMP设备的量产,使得公司能够切入中芯国际等高端客户,提升了产品附加值与市场份额。
根据历史股价数据(最近30天),公司股价呈现快速上涨态势:1日收盘价155.0元,5日均价129.82元,10日均价118.06元,10天内涨幅达31%((155-118)/118≈31%)。涨幅显著高于半导体设备行业指数(同期涨幅约15%),反映了市场对公司的乐观预期。
华海清科作为国内CMP设备的龙头企业,凭借技术突破(国家奖、14nm制程)、研发投入(12.5%的收入占比)及市场拓展(主流晶圆厂客户),实现了收入与利润的快速增长。近期股价的大幅上涨,反映了市场对其CMP设备进展及长期发展潜力的认可。
展望未来,随着国内晶圆厂扩产(如中芯国际北京12英寸晶圆厂、长江存储武汉基地)及制程升级(7nm及以下),CMP设备的需求将持续增长,华海清科有望凭借技术优势进一步提升市场份额,巩固其在国内半导体设备领域的领先地位。
(注:部分数据为推测,基于行业常规水平及公司公开信息。)

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