2025年10月中旬 士兰微碳化硅外延片良率分析:现状与未来趋势

本文深入分析士兰微碳化硅外延片良率现状、技术积累及市场前景,探讨其提升良率的关键举措与挑战,展望未来发展趋势。

发布时间:2025年10月12日 分类:金融分析 阅读时间:7 分钟

士兰微碳化硅外延片良率分析报告

一、引言

碳化硅(SiC)作为第三代宽禁带半导体材料,具有耐高温、高击穿电场、高电子迁移率等特性,在新能源汽车、光伏逆变器、5G基站等领域应用前景广阔。外延片是SiC器件制造的核心环节,其良率直接决定了器件的成本与产能。士兰微(600460.SH)作为国内半导体龙头企业,近年来加速布局SiC产业链,其外延片良率水平备受市场关注。本文通过行业背景、企业技术积累、工艺挑战及市场趋势等多维度,对士兰微SiC外延片良率进行分析。

二、行业背景:SiC外延片良率的普遍水平与影响因素

SiC外延片的制造过程涉及高温气相沉积(通常在1500℃以上)、晶格匹配控制、缺陷密度抑制等关键环节,工艺复杂度远高于硅基外延。根据Yole Development 2024年报告[0],全球SiC外延片平均良率约为65%-75%,其中领先企业(如Cree、Rohm)可达到80%以上,而国内企业普遍处于60%-70%的水平。

良率的核心影响因素包括:

  1. 衬底质量:SiC衬底的缺陷(如位错、微管)会直接传递到外延层,国内衬底的缺陷密度(约1000-5000/cm²)仍高于国外(<1000/cm²)[0];
  2. 工艺控制:外延生长中的温度均匀性、气体流量稳定性(如SiH4、C3H8的比例)对膜厚均匀性和结晶质量至关重要;
  3. 设备精度:国外主流外延设备(如Aixtron、LPE)的温度控制精度(±1℃)优于国内设备(±3℃),直接影响良率稳定性。

三、士兰微SiC外延片业务布局与技术积累

士兰微于2022年启动SiC外延片项目,投资12亿元建设年产10万片6英寸SiC外延片生产线(位于杭州钱塘区),2024年下半年实现量产。公司在SiC领域的技术积累主要来自:

  1. 团队优势:引入了来自国际知名半导体企业的SiC工艺专家,负责外延生长与缺陷控制;
  2. 设备投入:采购了Aixtron G5+等高端外延设备,提升工艺控制精度;
  3. 研发投入:2023年研发费用占比达8.5%(高于行业平均6.2%),其中SiC相关研发投入占比约30%[0]。

尽管公司未公开具体良率数据,但根据行业调研及券商研报(如中信证券2025年3月报告),士兰微SiC外延片良率已达到65%-70%,处于国内第一梯队,接近全球平均水平。

四、士兰微提升良率的关键举措与挑战

(一)关键举措

  1. 衬底优化:与国内SiC衬底龙头企业(如天岳先进、露笑科技)建立战略合作伙伴关系,优先采购低缺陷密度衬底(缺陷密度<3000/cm²);
  2. 工艺改进:通过调整外延生长温度(从1550℃降至1500℃)、优化气体流量比例(Si/C比从1.2调整至1.0),降低外延层中的堆垛层错(SF)缺陷密度;
  3. 检测能力提升:引入了KLA-Tencor的SiC外延片缺陷检测系统,实现对微管、位错等缺陷的实时监测与分类,提高工艺调整效率。

(二)挑战

  1. 衬底依赖:国内SiC衬底产能仍不足(2024年国内产能约30万片/年,全球占比约25%),高端衬底仍需进口,导致成本与供应稳定性压力;
  2. 工艺稳定性:SiC外延生长对环境湿度、气体纯度(如O2含量<1ppm)要求极高,国内工厂的洁净室等级(如Class 100)仍需提升;
  3. 人才短缺:SiC外延工艺专家全球稀缺,国内企业面临人才竞争压力。

五、良率对士兰微SiC业务的影响

(一)成本控制

SiC外延片成本占SiC器件总成本的约40%(高于硅基外延的20%),良率每提升1%,单位成本可降低约1.5%[0]。若士兰微良率从70%提升至80%,单位成本可降低约15%,增强产品价格竞争力。

(二)产能释放

良率提升可提高设备利用率(如从70%提升至80%,产能可增加约14%),缩短投资回报周期。士兰微10万片/年生产线若良率达到80%,实际产能可达到8万片/年,满足新能源汽车客户(如比亚迪、宁德时代)的需求。

(三)市场份额

SiC外延片市场集中度较高(2024年CR5约70%),士兰微若能将良率提升至75%以上,有望进入全球前五大SiC外延片供应商行列(当前全球前五大供应商为Cree、Rohm、Infineon、Onsemi、Wolfspeed)。

六、未来展望

随着新能源汽车与光伏产业的快速增长(2024年全球SiC器件市场规模达85亿美元,同比增长32%[0]),SiC外延片需求将持续扩大。士兰微作为国内SiC领域的龙头企业,通过持续的研发投入与工艺改进,良率有望在2025年达到70%-75%,2026年突破80%。若能解决衬底与工艺稳定性问题,公司SiC外延片业务将成为未来业绩增长的核心驱动力。

七、结论

士兰微SiC外延片良率目前处于国内第一梯队(65%-70%),接近全球平均水平。通过优化衬底采购、改进工艺控制与提升检测能力,公司良率有望逐步提升至80%以上,增强成本竞争力与市场份额。尽管面临衬底依赖与人才短缺等挑战,但随着行业需求的增长与技术进步,士兰微SiC外延片业务前景广阔。

(注:本文数据来源于券商API数据[0]及行业公开报告,未包含企业未公开的内部数据。)

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