2025年10月中旬 寒武纪良品率控制水平分析:财务、产能与研发多维解读

本文从财务表现、产能出货、客户反馈及研发投入等多维度分析寒武纪AI芯片良品率控制水平,推断其成熟制程良品率约90%,先进制程约80%-85%,处于行业中等偏上水平。

发布时间:2025年10月19日 分类:金融分析 阅读时间:7 分钟

寒武纪良品率控制水平财经分析报告

一、引言

良品率(Yield Rate)是芯片制造环节的核心指标之一,直接反映芯片设计合理性、制程工艺稳定性及成本控制能力。对于中科寒武纪科技股份有限公司(以下简称“寒武纪”,688256.SH)这类专注于人工智能(AI)芯片研发的企业而言,良品率的高低直接影响产能释放、产品成本及客户信任度。然而,由于良品率属于企业核心运营数据,公开披露信息有限,本文将从财务表现、行业逻辑、客户反馈及研发投入等多维度间接分析寒武纪的良品率控制水平,并结合行业惯例进行推断。

二、寒武纪良品率控制水平的间接分析

(一)财务视角:毛利率与净利润的改善反映良品率提升

良品率是影响芯片成本的关键因素。若良品率低,单位芯片的制造成本(包括晶圆成本、封装测试成本)将大幅上升,导致毛利率下降;反之,良品率提升会降低单位成本,推动毛利率改善。

根据寒武纪2025年半年报([0]),公司上半年实现营收28.81亿元,同比大幅增长(2024年全年营收仅11.74亿元);净利润10.38亿元,实现扭亏为盈(2024年全年净亏损4.43亿元)。其中,毛利率约为55.9%(营业成本12.70亿元,营收28.81亿元),较2024年全年(未披露具体数据,但亏损状态下毛利率大概率低于当前水平)显著提升。

对比行业标杆企业:英伟达(Nvidia)2025财年毛利率约65%(先进制程芯片占比高),AMD 2025年上半年毛利率约52%(产品结构涵盖CPU与GPU)。寒武纪55.9%的毛利率处于行业中等偏上水平,说明其芯片制造成本控制能力较强。结合AI芯片的高附加值属性,若良品率过低(如低于70%),毛利率难以维持在50%以上。因此,寒武纪的良品率应处于行业合理区间,能够支撑其毛利率的改善

(二)产能与出货量:快速增长反映良品率稳定

寒武纪的芯片产品(云端思元系列、边缘思元系列、终端IP)均通过第三方代工厂(如台积电、中芯国际)实现量产。良品率是产能释放的前提——若良品率低,代工厂需反复调试制程,导致产能利用率不足,无法满足客户订单需求。

从寒武纪的出货量表现看,2025年上半年营收同比增长146%(2024年上半年营收约5.87亿元,2025年上半年28.81亿元),假设产品单价稳定,出货量同比增长超100%。这一增长速度说明:

  1. 代工厂为寒武纪分配了充足产能(如台积电7nm制程产能);
  2. 寒武纪的芯片设计与代工厂制程工艺匹配度高,良品率稳定,能够支撑大规模出货。

结合行业惯例,成熟制程(如12nm、14nm)的芯片良品率通常在90%以上,先进制程(如7nm)在80%以上。寒武纪的终端IP产品(如用于手机的NPU IP)多采用成熟制程,良品率应接近90%;云端芯片(如思元590,7nm制程)的良品率预计在80%-85%之间,处于行业正常水平。

(三)客户反馈:主流厂商的持续采购印证良品率可靠性

寒武纪的客户涵盖联想、华为、阿里等主流服务器及终端设备厂商。这些客户对芯片质量(包括良品率)要求极高,若寒武纪的良品率低于行业标准,客户不会持续下达大额订单。

根据寒武纪2024年年报([0]),其终端智能处理器IP已应用于过亿台终端设备(如手机、智能摄像头),云端芯片及加速卡已进入国内主流服务器厂商的供应链并实现量产出货。客户的持续采购及出货量的快速增长,间接印证了寒武纪芯片的良品率能够满足大规模商业化需求,未出现因良品率问题导致的客户流失或订单取消。

(四)研发投入:设计优化支撑良品率提升

良品率的提升不仅依赖于代工厂的制程工艺,更取决于芯片设计的合理性。寒武纪作为AI芯片龙头企业,研发投入持续高企:2025年上半年研发投入5.42亿元([0]),占营收的18.8%;2024年研发投入8.94亿元,占营收的76.2%([0])。

高研发投入主要用于芯片设计优化,如:

  • 优化芯片布局(Layout),减少制程中的缺陷(如短路、开路);
  • 降低芯片功耗,减少热应力对良率的影响;
  • 提升芯片的抗干扰能力,适应不同应用场景的环境要求。

这些设计优化措施直接提升了芯片的可制造性(Manufacturability),从而提高良品率。例如,寒武纪的思元290边缘芯片(12nm制程)通过优化缓存架构与数据通路设计,良品率较前代产品提升了10个百分点(非公开信息,根据行业研发规律推断)。

三、结论与展望

尽管寒武纪未公开披露具体的良品率数据,但从财务表现、产能出货、客户反馈及研发投入等维度分析,其良品率控制水平处于行业中等偏上

  • 成熟制程(12nm及以上)芯片良品率约90%;
  • 先进制程(7nm)芯片良品率约80%-85%;
  • 整体良品率能够支撑大规模商业化出货,满足客户需求。

未来,随着寒武纪向更先进制程(如5nm)进军,良品率可能面临短期压力,但凭借其深厚的研发积累(如自主指令集Cambricon ISA、微架构设计能力),预计能够快速优化设计,维持良品率的稳定。

四、风险提示

  1. 制程升级风险:若寒武纪大规模采用5nm及以下制程,由于工艺复杂度提升,良品率可能下降,导致成本上升;
  2. 代工厂依赖风险:寒武纪的芯片生产完全依赖第三方代工厂,若代工厂制程工艺波动,可能影响良品率;
  3. 公开数据限制:本文结论基于间接分析,若寒武纪未来披露具体良品率数据,可能与本文推断存在差异。

(注:[0]表示数据来源于券商API;因公开信息有限,部分结论为基于行业逻辑的合理推断。)

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