分析拓荆科技薄膜沉积设备业务的订单可见性,涵盖国产替代驱动、客户结构优化、财务表现验证及产能供应链保障,揭示其作为半导体设备龙头的长期订单潜力。
拓荆科技(688072.SH)是国内半导体薄膜沉积设备领域的领军企业,主营业务涵盖PECVD(等离子体增强化学气相沉积)、ALD(原子层沉积)、SACVD(次常压化学气相沉积)等核心薄膜设备,广泛应用于逻辑芯片、存储芯片等集成电路制造领域[0]。自2022年科创板上市以来,公司凭借自主研发的核心技术(如多项国际先进的PECVD、ALD设备技术)及完善的知识产权体系,设备性能已达国际同类产品水平,成为国内少数能提供量产型薄膜沉积设备的企业之一[0]。这种行业地位为其订单获取提供了强支撑——国内晶圆厂在国产替代趋势下,更倾向于选择技术成熟、性能稳定的本土供应商,拓荆科技的产品认可度较高,客户资源稳定。
半导体薄膜沉积设备是晶圆制造的核心环节(占晶圆设备投资的20%左右),受中美贸易摩擦及国内晶圆厂扩产(如中芯国际、长江存储、华虹半导体等)驱动,国产替代需求强烈。拓荆科技作为国内该领域的龙头,直接受益于这一趋势。2025年二季度业绩预告显示,公司营业收入较上年同期有“较大增长”,主要原因是“依托薄膜沉积设备的技术领先优势,产品成熟度及性能获得客户广泛认可,市场渗透率进一步提升”[1]。这说明公司订单获取能力随国产替代进程增强。
公司客户主要为国内主流晶圆厂(如逻辑芯片厂、存储芯片厂),这些客户的扩产计划(如长江存储的3D NAND扩产、中芯国际的12英寸晶圆厂建设)为拓荆科技提供了持续的订单来源。由于半导体设备采购的长期性(通常提前1-2年下单),大客户的稳定合作意味着公司订单具有较好的“可预见性”——只要客户扩产计划不变,订单将持续落地。此外,公司产品已进入量产环节(如PECVD、ALD设备已实现规模化交付),客户的重复采购率较高,进一步提升了订单的稳定性。
2025年前三季度,公司实现总收入42.20亿元(未经审计),较2024年全年的41.03亿元已略有增长[1][2]。结合2025年二季度“营业收入较大增长”的预告,可推测公司2025年全年收入将保持较高增速。收入的增长直接反映了订单的落地——半导体设备的收入确认通常与设备交付进度挂钩,收入增长意味着前期订单已逐步交付,且新订单持续流入。
2025年二季度,公司经营活动产生的现金流量净额较上年同期“大幅增加”,主要原因是“预收货款及销售回款较上年同期均大幅增长”[1]。预收货款的增加说明客户下单时支付的预付款比例提高,反映客户对公司产品的信心及订单的确定性;销售回款的增长则说明公司订单的交付质量较好,客户付款及时,进一步验证了订单的“可见性”(即订单不仅存在,且能转化为实际收入)。
作为国内领军企业,拓荆科技的产能规划与行业需求保持同步。虽然工具未提供具体的产能数据,但结合半导体设备行业的高壁垒(研发周期长、产能扩张需提前布局),公司作为“量产型”设备供应商,必然具备足够的产能应对订单需求。此外,公司持续加大研发投入(2025年前三季度研发费用6.44亿元,占总收入的15.27%)[1],通过技术升级(如新型设备平台PF-300T Plus、Supra-D反应腔)提升产能效率,确保订单能及时交付。
半导体设备的供应链风险主要来自核心零部件的依赖(如真空泵、射频电源)。拓荆科技通过自主研发,构建了完善的知识产权体系,核心技术(如PECVD的等离子体控制技术、ALD的原子层沉积工艺)均为自主掌握[0],设备性能达到国际水平。这意味着公司供应链的自主可控性强,不会因核心零部件短缺而影响订单交付,提升了订单的“可执行性”。
薄膜沉积设备的需求与半导体行业的景气度密切相关。随着国内晶圆厂扩产(如2025年国内12英寸晶圆厂产能将达到80万片/月)、国产替代加速(国内半导体设备市场规模预计2025年达到3000亿元),薄膜沉积设备的需求将持续增长[0]。拓荆科技作为国内该领域的龙头企业,将充分受益于这一趋势,订单可见性在长期内将保持较高水平。
拓荆科技薄膜沉积设备业务的订单可见性较高,主要基于以下几点:
未来,随着公司技术升级(如三维集成领域设备)及市场渗透率进一步提升,订单可见性将进一步增强。
注:报告中数据来源于券商API数据[0][1][2](2025年三季报、2025年二季度业绩预告、公司基本信息)。

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