存储芯片封装技术突破点分析:HBM演进与国产替代加速

#HBM #存储芯片封装 #先进封装 #半导体国产替代 #chiplet集成 #TSV技术 #芯片制造
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2026年1月19日

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存储芯片封装技术的突破点分析

存储芯片封装技术正处于快速变革期,AI算力需求的爆发式增长正在推动封装技术向更高密度、更高带宽和更先进集成的方向演进。以下从技术路线、关键突破点和产业发展三个维度进行系统分析。

一、HBM封装技术:从"能用"到"全球领先"
1.1 堆叠层数与带宽的突破

高带宽存储器(HBM)作为AI加速器的核心组件,其技术演进直接决定了下一代AI芯片的性能上限[1]。自2015年第一代HBM1发布以来,HBM技术已迭代至第六代产品HBM4,在带宽、单芯片容量、堆叠层数等关键维度均实现重大突破:

技术代际 堆叠层数 最大容量 带宽 制程技术
HBM1 4Hi 1GB 128GB/s 3x
HBM2 8Hi 8GB 256GB/s 2x
HBM2E 12Hi 16GB 480GB/s 1y/1z
HBM3 12Hi 24GB 819GB/s 1a
HBM3E 12-16Hi 24-36GB 1.2-1.6TB/s 1b
HBM4 16Hi 64GB 2.56TB/s 先进节点

从参数演进来看,带宽从初代HBM的128GB/s提升至HBM4的2.56TB/s(2621GB/s),增长约20倍;单芯片容量从1GB增加至64GB;堆叠层数则从4Hi升级至16Hi[1]。

1.2 后端键合技术的路线竞争

目前市场上主要存在两种主流后端封装技术路线:

  • MR-MUF(批量回流焊底部填充)
    :SK海力土领先的技术方案,在生产效率和热应力控制方面具有优势
  • TC-NCF(热压键合非导电膜)
    :三星和美光采用的技术路线

面向未来16层以上的超高堆叠,

混合键合技术(Hybrid Bonding/HCB
被视为行业共同的演进方向,是实现技术突破的关键[2]。混合键合通过铜铜直接键合取代传统微凸点,可实现更精细的互连间距和更高的信号完整性。

二、国产封装技术的突破性进展
2.1 龙头企业技术突破

中国存储封装企业正在加速技术追赶,部分领域已实现国际领先:

长电科技

  • 自主研发的XDFOI Chiplet技术良率达到98.5%,远超国际竞争对手
  • 4纳米级封装已大规模量产
  • 独占摩尔线程83%的GPU封测订单
  • HBM封测毛利率高达42%,是传统封装的两倍以上[3]

深科技

  • 已攻克32层堆叠技术,良率提升至99.7%
  • HBM3封装良率追平三星水平
  • 计划年内量产并切入英伟达供应链[3]

通富微电

  • 南通工厂2025年HBM产能目标10万片/月
  • 绑定AMD、英伟达供应链
  • 44亿元定增加码先进封装产能[4]
2.2 材料与设备的国产替代

存储芯片封装材料长期被日美企业垄断,国产化率低于5%。当前国产替代正在加速突破:

材料类别 国产突破情况 供应商
前驱体 成为SK海力士供应商 雅克科技
Low-α球硅 国产替代加速 联瑞新材
GMC环氧塑封料 通过长电认证,支持12层堆叠 华海诚科
临时键合胶 支持HBM5更高层堆叠 鼎龙股份

设备领域同样取得重要进展:中微公司TSV刻蚀机适配12英寸产线,北方华创薄膜设备进入长存/长鑫供应链,拓荆科技混合键合设备(W2W)量产支持高层堆叠[5]。

三、关键突破方向
3.1 TSV(硅通孔)技术

TSV是HBM 3D堆叠的核心工艺,工序占封装成本的30%,涉及高精度刻蚀、薄膜沉积等关键设备。国产设备市占率虽不足10%,但已取得重要突破:

  • 中微公司TSV刻蚀机适配12英寸产线
  • 北方华创薄膜设备进入主流存储厂商供应链
  • 赛腾股份缺陷检测设备进入三星、SK海力士产线[5]
3.2 TGV(玻璃通孔)创新

沃格光电TGV实现3微米孔径,为替代TSV提供新路径。相较于传统硅基TSV,TGV在成本和性能方面具有潜在优势,是未来封装技术的重要探索方向[5]。

3.3 Chiplet异构集成

Chiplet技术通过将不同功能的小芯片进行封装集成,是突破摩尔定律限制的重要路径:

  • 长电科技XDFOI™高密度多维异构集成技术达到国际领先水平
  • 通富微电在CPU/GPU等超大尺寸、高功耗芯片封装上技术领先
  • 虚拟键合技术:长江存储294层NAND采用虚拟键合组合芯片,效率损失仅5%,生产技术100%国产化[3][5]
3.4 车规级封装

长电科技旗下车规级芯片封测工厂(JSAC)已于2025年12月在上海临港顺利通线,配备AI缺陷检测与全流程追溯系统,满足AEC-Q100/101/104车规认证。2025年前三季度公司汽车电子收入同比增长31.3%,车规封装已成为核心增长引擎[4]。

四、挑战与风险
4.1 技术代差仍然存在
  • 国际巨头已量产16层HBM3E,国产最高仅12层验证
  • HBM4的2048位宽堆叠技术仍需攻关
  • 国产HBM封装良率约90%,低于国际98.5%水平[5]
4.2 材料与设备瓶颈
  • 高端封装材料国产化率仍低于5%
  • TSV刻蚀、薄膜沉积等关键设备国产替代空间大
  • 美国将HBM纳入出口管制,设备与材料进口受阻[5]
4.3 成本与良率压力
  • 随着HBM技术迭代,物理尺寸持续增大(约15%),导致每Gb成本上升
  • 扩产周期长达18-24个月,资本密度极高
  • HBM每GB产能需三倍于DDR5的晶圆空间[6]
五、未来展望
5.1 2026年关键节点
  • 华为昇腾950PR量产与长鑫存储HBM3产能释放,将成为技术突围的标志性事件
  • 长鑫存储完成HBM3原型开发,计划2026年量产
  • 台积电从2026年起将作为HBM代工厂,供应链格局将重塑[5][6]
5.2 市场规模与增长预期

全球HBM市场规模预计从2024年的29亿美元增长至2032年的157亿美元,CAGR达26%。2025年HBM市场规模预计突破120亿美元,两年增长三倍[1][3]。

5.3 技术演进趋势
  1. 堆叠层数持续增加
    :从16Hi向32Hi甚至更高演进
  2. 混合键合成为主流
    :取代传统微凸点键合
  3. 定制化HBM(cHBM)
    :集成计算逻辑,实现"存算一体化"
  4. 玻璃基板商用
    :多方竞逐,有望在2026年实现突破[2][4]
参考文献

[1] 爱建证券 - 存储芯片涨价将延续至2026年研究报告 (https://pdf.dfcfw.com/pdf/H3_AP202512221805753876_1.pdf)

[2] 腾讯云 - HBM工艺突破:技术回顾、展望 (https://cloud.tencent.com/developer/article/2608604)

[3] 新浪财经 - 半导体封测洁净室双利好催生涨停潮各方观点 (https://news.sina.cn/bignews/opinion/2026-01-16/detail-inhhnzar2553159.d.html)

[4] EE Times China - 通富微电:44亿押注先进封装 (https://www.eet-china.com/mp/a466693.html)

[5] 新浪财经 - HBM技术壁垒高达55%毛利率,中国存储厂商能否突破3D堆叠封锁线? (https://news.sina.cn/bignews/insight/2026-01-15/detail-inhhiusc3473670.d.html)

[6] 文学城 - MU股价暴涨的背后逻辑 (https://www.wenxuecity.com/blog/202512/72453/18439.html)

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